產(chǎn)品應(yīng)用 AR/AF、分光膜、高反射膜、其它光學(xué)薄膜 產(chǎn)品特點(diǎn) ◆ 配備多點(diǎn)晶振傳感器+膜厚控制儀 ◆ 使用RF離子源 ◆ 搭載雙電子槍、多點(diǎn)和環(huán)型坩堝 ◆ 配置IGBT電源,穩(wěn)定、節(jié)能 ◆ 電子槍配備光斑圖形控制器 ◆ 利用自動(dòng)控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜 ◆ 工件架可選配傘式或行星式 ◆ 排氣系統(tǒng)可選配擴(kuò)散泵/分子泵+深冷捕集泵
| 類別 | 項(xiàng)目 | 參數(shù)詳情 |
|---|---|---|
| 規(guī)格 | 真空室 | SUS304,Φ1800mm×1920mm(H) |
| 工件架尺寸 | Φ1600mm | |
| 工件架轉(zhuǎn)速 | 0-30rpm (可變) | |
| 膜厚檢測(cè)裝置 | 多點(diǎn)晶振傳感器 + 膜厚控制儀 | |
| 蒸發(fā)源 | 電子槍 2 套 + IGBT 電源 | |
| 離子源 | 23cm RF 離子源 | |
| 排氣系統(tǒng) | 機(jī)械泵 + 分子泵(擴(kuò)散泵)+ 深冷捕集泵 | |
| 性能 | 極限真空度 | 7.0×10??Pa 以下 |
| 排氣時(shí)間 | 20min(大氣壓~1.3×10?3Pa) | |
| 基板溫度 | 最高:350℃ | |
| 工作條件 | 設(shè)備尺寸 | 約 5700mm (W)×7700mm (D)×4000mm (H) |
| 電源 | 3 相,380v,50Hz,總?cè)萘考s 150kVA | |
| 冷卻水 | 水流量 11m3/h,溫度 20℃-25℃ | |
| 空氣壓力 | 0.6-0.7MPa 以上 | |
| 重量 | 約 13000kg |