產(chǎn)品應(yīng)用 AR/AF、分光膜、高反射膜、其它光學(xué)薄膜 產(chǎn)品特點(diǎn) · 轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)是采用磁流體密封技術(shù)驅(qū)動(dòng)的中心回轉(zhuǎn)方式來(lái)確保鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性 · 配置離子源以提高鍍膜層的**性,增加鍍膜層的附著性 · 光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),電阻加熱蒸發(fā)源可依需求追加安裝 · 工件架可選擇鐘罩式或行星式 · 豐富的鍍膜種類 · 易于操作和維護(hù) · 很高的工藝穩(wěn)定性
| 類別 | 項(xiàng)目 | 參數(shù)詳情 |
|---|---|---|
| 規(guī)格 | 真空室 | SUS304,Φ1550mm×1800mm(H) |
| 工件架尺寸 | Φ1400mm | |
| 工件架轉(zhuǎn)速 | 0-30rpm (可變) | |
| 膜厚檢測(cè)裝置 | 多點(diǎn)晶振傳感器 + 膜厚控制儀 | |
| 蒸發(fā)源 | 電子槍 2 套 + IGBT 電源 | |
| 離子源 | 17/23 cm RF 離子源 | |
| 排氣系統(tǒng) | 機(jī)械泵 + 分子泵(擴(kuò)散泵)+ 深冷捕集泵 | |
| 性能 | 極限真空度 | 7.0×10??Pa 以下 |
| 排氣時(shí)間 | 15min(大氣壓~1.3×10?3Pa) | |
| 基板溫度 | 最高:350℃ | |
| 工作條件 | 設(shè)備尺寸 | 約 5500mm (W)×7200mm (D)×3700mm (H) |
| 電源 | 3 相,380v,50Hz,總?cè)萘考s 120kVA | |
| 冷卻水 | 水流量 11m3/h,溫度 20℃-25℃ | |
| 空氣壓力 | 0.6-0.7MPa 以上 | |
| 重量 | 約 11000kg |