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首頁/產(chǎn)品展示/光學(xué)真空鍍膜設(shè)備/OPMS-2000F全自動磁控濺射光學(xué)機(jī)

OPMS-2000F全自動磁控濺射光學(xué)機(jī)

產(chǎn)品優(yōu)勢
產(chǎn)品應(yīng)用
AR、AS/AF、硬質(zhì)AR膜、硬質(zhì)膜、手機(jī)屏、汽車中控屏等
產(chǎn)品特點
◆雙工藝室，高 效率鍍膜
◆ 可形成高密度光學(xué)薄膜
◆ 可對膜組成和膜厚進(jìn)行高精度控制
◆ 低溫成膜，支持各種應(yīng)用
◆ 可鍍制混合膜、中間折射率膜
◆ AF自動成膜系統(tǒng)
◆工藝管理系統(tǒng)
產(chǎn)品參數(shù)
類別項目參數(shù)詳情
規(guī)格轉(zhuǎn)鼓交換室SUS304，（長）3200 mm×（寬）2620 mm×（高）2160 mm
鍍膜工藝室SUS304，（長）2610 mm×（寬）2090 mm×（高）2160 mm
性能轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)速10~120rpm（可變）
進(jìn)出料室抽速≤15min（大氣壓～2.0×10?1Pa）
工藝室抽速≤15min（大氣壓～2.0×10?1Pa）
極限真空度≤6.0×10?3Pa
濺射靶材Nb, Si, Cr, Al, Ti, ITO ...
配置夾具系統(tǒng)Φ2000mm，轉(zhuǎn)鼓型，10 轉(zhuǎn) / 分 - 120 轉(zhuǎn) / 分（可變）
掛板13-36 個
濺射源雙旋轉(zhuǎn)陰極磁控靶 (可選平面陰極磁控靶)
排氣系統(tǒng)機(jī)械泵，羅茨泵，分子泵；深冷捕集泵
真空控制系統(tǒng)真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計
反應(yīng)離子源RF-ICP 電感耦合射頻離子源
AF 膜系統(tǒng)電阻蒸發(fā)源 + 自動硅烷供應(yīng)系統(tǒng)
充氣系統(tǒng)氣體流量計
控制系統(tǒng)PC+PLC
電源系統(tǒng)三相，380V±10%，總?cè)萘?1000kVA，50/60Hz
工作條件冷卻水流量 15T/h；溫度 20-25℃
壓縮空氣0.5 MPa - 0.7 MPa
外形尺寸12000mm（寬）×14000mm（深）×3640mm（高）
重量約 70T