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首頁/產(chǎn)品展示/光學(xué)真空鍍膜設(shè)備/JSDH 系列多弧磁控濺射復(fù)合鍍膜設(shè)備

JSDH 系列多弧磁控濺射復(fù)合鍍膜設(shè)備

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
應(yīng)用領(lǐng)域
五金、鐘表、手機(jī)屏、手機(jī)中框、顯示屏、醫(yī)療器械、陶瓷、玻璃
產(chǎn)品特點(diǎn)
磁控濺射鍍膜機(jī)主要用于裝飾性和功能性反應(yīng)薄膜具有沉積速率高，反應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)，徹底克服了陰極靶表面中毒和異常輝光放電等現(xiàn)象。
◆在金屬和非金屬基片上鍍制單層膜、多層復(fù)合膜等。配置升級(jí)后的陰極磁控靶及電源。
根據(jù)客戶需要可選弧靶、平面靶、圓柱靶、李生靶離子源等。
產(chǎn)品參數(shù)
主要技術(shù)參數(shù)JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
設(shè)備型號(hào)JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
真空室Φ1300×H1200mmΦ1400×H1200mmΦ1500×H1200mmΦ1600×H1200mmΦ1680×H1200mm
工件架6 桿 - 18 桿 或定制6 桿 - 24 桿 或定制
工件轉(zhuǎn)速公轉(zhuǎn) 0~10rpm
抽氣系統(tǒng)機(jī)械泵 + 羅茨泵 + 維持泵 + 分子泵（擴(kuò)散泵）
加熱器管狀加熱器 300℃(zui高溫度 300℃)
極限真空6.0×10??Pa (空載)
抽氣時(shí)間大氣～6.0×10?3Pa ≤15min (空載)
偏壓電源單極脈沖偏壓電源或雙極脈沖偏壓電源
磁控陰極圓柱靶，中頻電源或直流電源
濺射陰極多弧靶
充氣系統(tǒng)多路充氣系統(tǒng)
操作控制觸控屏一體機(jī)
設(shè)備尺寸約 4200mm (長(zhǎng))×3500mm (寬)×2500mm (高)約 4200mm (長(zhǎng))×3500mm (寬)×2800mm (高)約 4500mm (長(zhǎng))×4000mm (寬)×2800mm (高)約 4500mm (長(zhǎng))×4500mm (寬)×2800mm (高)
電力三相五線制：380V/50HZ 功率：50KW~80KW
冷卻水 (壓強(qiáng) / 溫度)0.2~0.3Mpa/20℃~25℃(工業(yè)軟水、去離子水)
空氣壓力0.5-0.8Mpa (干燥)